暉盛科技搶先佈局次世代晶片電漿技術 SEMICON Taiwan 2025展出八大應用主軸引關注

全球半導體年度盛事 SEMICON Taiwan 2025 即將於9月10日至12日於台北南港展覽館盛大舉行。今年展會以「Leading with Collaboration. Innovating with the World. 世界同行 創新啟航」為主題,聚焦AI、先進封裝、矽光子、異質整合與綠色製造等13大未來技術議題,預計吸引超過1,200家企業與十萬名專業人士共襄盛舉。身為國內電漿技術領航者-暉盛科技(Nano Electronics and Micro System Technologies, Inc.)也將於本次展會中(攤位號碼L-0100),展出最新一代電漿製程解決方案。

暉盛將持續深化「先進、高品質、高科技、專業、創新、信賴」的品牌價值,透過電漿製程...
暉盛將持續深化「先進、高品質、高科技、專業、創新、信賴」的品牌價值,透過電漿製程技術的創新升級與在地服務能量,攜手全球半導體產業鏈夥伴,開創更高效、更綠色、更可靠的製造新局。 暉盛/提供

在半導體技術持續進化、製程精密度不斷挑戰極限的趨勢下,暉盛科技憑藉深厚的技術底蘊與市場實績,推出涵蓋晶片載板、封裝、切割、再生與矽光子整合等領域的電漿製程創新方案,不僅回應AI晶片與HPC高效運算對良率與散熱的極致需求,更為永續製造與資源循環打造出兼顧效率與環保的先進路徑。

今年展出,特別聚焦於全乾式電漿製程技術,其無需化學液體、無廢水排放的特性,有效降低碳排放與污染,完美呼應全球ESG與綠色供應鏈浪潮。暉盛指出,這項技術不只是製程選擇的轉變,更是一場製造邏輯的革新,讓晶圓加工在達到極高精度與良率的同時,也邁向對環境更友善的方向。

此外,暉盛亦同步展示多項針對先進封裝與矽光子應用的關鍵解決方案,包括混合鍵合(Hybrid Bonding)所需的電漿前處理技術、支援玻璃芯與玻璃載板的超微鑽孔製程,以及用於矽光子共封裝(CPO)的高相容性電漿處理平台,皆展現其強大的跨製程整合能力與創新研發能量。

在晶圓再生與切割方面,暉盛的電漿再生與拋光技術則為業界提供了延長晶圓壽命、降低成本與強化資源使用效率的新選擇。晶圓切割與薄化技術也同步升級,能支援更小尺寸與高密度的先進晶片設計,並提升產品良率與封裝可靠度。

暉盛科技表示,在全球地緣政治與產業供應鏈重新洗牌的當下,掌握製程自主化與技術差異化已成為企業存續與成長的核心關鍵。電漿技術正是連結材料、封裝、載板與晶圓各環節的重要橋梁,也是台灣邁向先進製造與高可靠性晶片設計的重要支撐。

展望未來,暉盛將持續深化「先進、高品質、高科技、專業、創新、信賴」的品牌價值,透過電漿製程技術的創新升級與在地服務能量,攜手全球半導體產業鏈夥伴,開創更高效、更綠色、更可靠的製造新局。此次展會將成為暉盛布局未來技術版圖、展現品牌實力與策略眼光的重要舞台,誠摯邀請各界蒞臨L-0100攤位,共同探索電漿技術驅動下的晶片新未來。

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